采用气浮平面电机的硅片台双台交换系统(关于采用气浮平面电机的硅片台双台交换系统简述)

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1、《采用气浮平面电机的硅片台双台交换系统》是清华大学于2009年9月11日申请的发明专利，该专利的申请号为2009101729499，公布号为CN101694560A，公布日为2010年4月14日，发明人是朱煜、张鸣、汪劲松、闵伟、尹文生、胡金春、徐登峰、杨开明、段广洪、田丽、许岩。

2、《采用气浮平面电机的硅片台双台交换系统》主要用于光刻机系统中。该硅片台双台交换系统包括基台、两个结构相同的分别工作于预处理工位和曝光工位的硅片台和硅片台驱动装置。所述硅片台驱动装置由平面电机和气浮结构组成，平面电机采用永磁平面电机、步进式平面电动机、感应式平面电动机或开关磁阻式平面电机，平面电机一个定子和两个动子组成，定子设置在基台顶部，动子设置在硅片台的底部；所述气浮结构由多个设置于硅片台底部的气浮轴承组成。该系统通过平面电机直接驱动硅片台实现平面上的双台交换和步进扫描运动，提高了光刻机的生产率、套刻精度和分辨率。

3、2018年12月20日，《采用气浮平面电机的硅片台双台交换系统》获得第二十届中国专利银奖。

4、（概述图为《采用气浮平面电机的硅片台双台交换系统》摘要附图）

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